28nm以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化了!
28nm虽然不是特别先进技术，但意义依然重大，因为这是芯片中低端和中高端的分界线，目前除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工业级芯片大多都是28nm以上技术。
9月9日，工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知：
工作原理：深紫外光刻技术的革新
氟化氪光刻机与氟化氩光刻机都属于深紫外(DUV)光刻机的范畴，它们的工作原理基于利用特定波长的光源通过光学系统和投影物镜，将集成电路的微观图案精确地投影到硅片上的光刻胶层。这两种光刻机的主要区别在于它们使用的光源波长：
氟化氪光刻机：采用248nm波长的光源，能够实现110纳米以下的分辨率，适用于多种集成电路制造工艺。
氟化氩光刻机：使用193nm波长的光源，提供更高的分辨率，能够实现65纳米以下的制程技术，为更精细的电路制造提供了可能。
技术意义：产业升级与自主可控
这两种光刻机的出现，不仅是技术上的一次飞跃，更是产业自主化的重要里程碑：
技术突破：氟化氪与氟化氩光刻机的成功研发，标志着我国在高端光刻技术领域取得了显著进展，为半导体制造提供了强有力的技术支持。
产业升级：高精度光刻机的引入，使得国内半导体产业能够制造更复杂、更高性能的集成电路，推动了整个产业链的技术升级和产品创新。
经济效益与国家安全：通过减少对外部技术的依赖，这些光刻机有助于提升国内半导体产业的自给自足能力，增强经济和产业的安全性。
冷水机控温：确保光刻机稳定运行的关键
在光刻机的运行过程中，精确的温度控制对于保证光刻质量和产量至关重要。冷水机作为冷却系统的核心组件，其作用不容小觑：
控温需求：光刻机在曝光过程中对温度极为敏感，因此需要冷水机提供高精度的温度控制，以维持光刻机的稳定性和重复性。
冷水机的作用：通过循环冷却水，冷水机能够有效地带走光刻机在运行中产生的热量，确保设备在适宜的温度范围内工作，从而保障光刻过程的精确性和可靠性。
特域冷水机可为光刻机提供专业冷却支持
特域冷水机超快激光冷水机CWUP系列，可以光刻机提供精密稳定持续控温，其中CWUP-20ANP温控精度达到±0.08℃，为精密加工领域提供高效的冷却解决方案。
在半导体制造的精密世界里，光刻机是实现微细电路图案转移的核心设备。随着技术的进步，氟化氪光刻机与氟化氩光刻机以其卓越的性能，成为了推动行业发展的重要力量。
